最新の研究受託実績を公開いたしました。

最新の研究受託実績

研究受託実績(納入実績)

有機触媒開発 加水分解解析 金属錯体開発
有機触媒開発 加水分解解析 金属錯体開発

種別 内容 納入先 件数
合成ルート探索・提案 低分子化合物合成ルート探索 化学産業 2
反応解析・プロセス改良(低分子) エステル系化合物加水分解、クロロ化、ニトロ化、ガス吸収反応、環状化合物合成反応　等 総合メーカ、化学産業、製薬、学術研究 10
反応解析・プロセス改良(低分子金属錯体) 金属(Li)二量化反応、カップリング(Pd)反応 製薬、学術研究 2
反応解析・プロセス改良(高分子) 光延反応、アミン系高分子重合反応　等 バイオ、化学産業 3
触媒開発 不斉合成反応解析・触媒開発、金属(Pd)錯体触媒開発　等 製薬、化学産業 8
金属系化合物解析 金属(Ni, La, Ru)錯体配位構造解析・物性計算、有機分子結晶構造解析　等 受託合成、学術研究 4
有機電子材料設計 導電性高分子設計　等 化学産業 3
物性計算 IR, UV, 電荷, HOMO/LUMO等推算 化学産業　等 多数
(平成23年3月末時点)

実績例 1：プロセス改良（不純物を 1/10 以下に！）

従来のプロセスに対して、CASS技術・計算化学による詳細な反応解析を実施した結果、歩留り(収率)を94.7%⇒99/0%へ、不純物(副生成物)の生成を4.4%⇒0.4%に抑制し、大幅な製造原価削減を達成しました。


従来法 CASS適用新プロセス
温度 0℃
脱水剤 有
収率 94.7%
副生成物 4.4% 		温度 30℃
脱水剤 無
収率 99.0%
副生成物 0.4%

反応条件を緩和し、収率向上、純度向上
不純物を1/11にすることに成功

実績例 2：新しい金属錯体触媒の開発（配位子の設計）

CASS技術・計算化学を用い、Pd(II)錯体によるHeck反応の触媒サイクルと作用機序を詳細に解明することにより、新しい配位子の開発を行いました。

Pd(II)-Pd(IV) Heck反応触媒サイクル

・触媒サイクルの解明(Pd錯体)
・配位子(二座アゾール配位子)の効果による反応機構の差の解明
(= 配位子の設計)


解明された全触媒サイクル